茨城大学
工学部
生体分子機能工学科

顔写真
教授

山内 智

ヤマウチ サトシ
YAMAUCHI Satoshi

経歴

  1. 沖電気工業株式会社 1991/04-1997/03
  2. 茨城大学工学部 1997/04-現在

学歴

  1. 東北大学 工学部 電子工学科 1986 卒業
  2. 東北大学 工学研究科 電子工学 修士 1988 修了
  3. 東北大学 工学研究科 電子工学 博士 1991 修了

学位

  1. 工学博士 東北大学

教育・研究活動状況

プラズマプロセスによる半導体薄膜のエピタキシャル成長の研究
酸化亜鉛薄膜のエピタキシャル成長
酸化チタン薄膜形成プロセスの成長
光触媒材料の研究
超親水性機能の研究
テラヘルツ波デバイスの研究

研究分野

  1. 電子・電気材料工学
  2. 機能・物性・材料
  3. 固体物性I(光物性・半導体・誘電体)
  4. 電子デバイス・機器工学

研究キーワード

  1. プラズマプロセス、ヘテロエピタキシャル成長、酸化亜鉛薄膜、酸化チタン薄膜、発光デバイス、光触媒、超親水性
  2. 銅薄膜の気相選択形成

研究テーマ

  1. 酸化亜鉛薄膜のヘテロエピタキシャル成長 1998-現在
  2. 酸化チタン薄膜の成長 1999-現在
  3. 超親水性表面コーティング 2001-現在

著書

  1. ディスプレイ・光学部材における薄膜製造技術 情報機構 2007/08/30 978-4-901677-83-7 ディスプレイ・光学部材の薄膜製造技術についてまとめたハンドブックにてプラズマCVDによる酸化チタン薄膜の形成法について解説

論文

  1. 研究論文(学術雑誌) 共著 Enhanced Photo-Induced Property of LPCVD-TiO2 Layer on PCVD-TiOx Initial Layer Satoshi Yamauchi, Keisuke Yamamoto, Sakura Hatakeyama Journal of Materials Science and Chemical Engineering 3/ 7, 28-38 2015/06/18 10.4236/msce.2015.37004
  2. 研究論文(学術雑誌) 共著 Drastic Resistivity Reduction of CVD-TiO2 Layers by Post-Wet-Treatment in HCl Solution Satoshi Yamauchi, Kazuhiro Ishibashi, Sakura Hatakeyama Journal of Crystallization Process and Technology 5, 24-30 2015/01/16 10.4236/jcpt.2015.51004
  3. 研究論文(学術雑誌) 共著 Low Resistive TiO Deposition by LPCVD Using TTIP and NbF5 in Hydrogen-Ambient Satoshi Yamauchi, Kazuhiro Ishibashi, Sakura Hatakeyama Journal of Crystallization Process and Technology 5, 12-23 2015/01/12 10.4236/jcpt.2015.51003
  4. 研究論文(学術雑誌) 共著 Low Pressure Chemical Vapor Deposition of TiO2 Layer in Hydrogen-Ambient Satoshi Yamauchi, Kazuhiro Ishibashi, Sakura Hatakeyama Journal of Crystallization Process and Technology 4, 185-192 2014/10/07 10.4236/jcpt.2014.44023
  5. 研究論文(学術雑誌) 共著 Low Pressure Chemical Vapor Deposition of Nb and F Co-Doped TiO2 Layer Satoshi Yamauchi, Shouta Saiki, Kazuhiro Ishibashi, Akie Nakagawa, Sakura Hatakeyama Journal of Crystallization Process and Technology 4/ 2, 79-88 2014/04/03 10.4236/jcpt.2014.42011

研究発表

  1. 口頭発表(招待・特別) ヨウ化銅のみを原料とする銅の気相選択成長 TSV応用研究会 2016/10/04
  2. ポスター発表 配向性制御によるアナターゼTiO2光触媒性の高効率化 第23回電気学会東京支部茨城支所研究発表会 2015/11/28
  3. 口頭発表(一般) THz-TDSによる超親水性表面での水の分析 第74回応用物理学会秋季学術講演会 2013/09/18
  4. 口頭発表(一般) Nb-FドープCVD-TiO2薄膜のwet処理による特性改善 第74回応用物理学会秋季学術講演会 2013/09/17
  5. ポスター発表 CVD法による低抵抗酸化チタン薄膜の成長II 第20回電気学会東京支部茨城支所研究発表会 2012/11/24

知的財産権

  1. 水の分解方法及びその装置 特願2001-63342 2001/03/07 特開2002-266089
  2. 特許 テラヘルツ波を用いた異物検査装置及びその方法 2013/06/21 6061197 2016/12/22
  3. 特許 テラヘルツ電磁波を用いた試料の構造分析方法およびテラヘルツ電磁波を用いた試料の構造分析装置 特願2008-39555 2008/02/21 特開2009-198278 特許第4817336 2011/09/09
  4. 半導体素子の製造方法 平成06年特許願第218743号 1994/09/13 特許第3283703号 2002/03/01
  5. FABRICATING METHOD FOR SEMICONDUCTOR DEVICE US 6,284,587 B1 2001/09/04

受賞

  1. Materials Research Society Graduate Student Awards 1989

所属学協会

  1. Materials Research Society (MRS)
  2. The Institute of Electrical and Electronics Engineers (IEEE)
  3. 日本応用物理学会
  4. 材料技術研究協会 2010/01/01-現在